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添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = = Addit...

林隆奕

添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = = Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = / 林隆奕撰.
其他題名:	Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
其他題名:	Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition.
作者:	林隆奕
出版者:	雲林縣 : 國立虎尾科技大學 , : 民105.06.,
面頁冊數:	[13], 172面 : 圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授：方昭訓.
標題:	電化學原子層沉積. -
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-0807201623200800

添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = = Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
林隆奕

添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition / Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition.林隆奕撰. - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學 , 民105.06. - [13], 172面 : 圖, 表 ; 30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

添加劑對鈷基薄膜上以電化學原子層沉積銅薄膜之研究 = = Additives Affecting the Growth of Cu Thin Film Prepared on Cobalt-Based Substrates by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
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500 $a 指導教授：方昭訓.
500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
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