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共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 = = Character...

方少彤

共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 = = Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 =/ 方少彤.
其他題名:	Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition /
其他題名:	Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition.
作者:	方少彤
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民112.07.,
面頁冊數:	[19], 141面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授: 方昭訓.
標題:	interconnects. -
電子資源:	電子資源

共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 = = Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition /
方少彤

共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 =Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition /Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition.方少彤. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民112.07. - [19], 141面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授: 方昭訓.

碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.

含參考書目.

(平裝).Subjects--Topical Terms:

1245710
interconnects.

共濺鍍與電化學共沉積Co-Ru合金薄膜之特性 = = Characteristics of Co-Ru Alloy Thin Films Prepared by Co-sputtering and Electrochemical Co-deposition /
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500 $a 指導教授: 方昭訓.
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