表面侷限氧化還原反應釕置換低電位沉積鈷製備釕鈷合金薄膜特性 = = Ru...
張耀文

 

  • 表面侷限氧化還原反應釕置換低電位沉積鈷製備釕鈷合金薄膜特性 = = Ru(Co) Thin Film Prepared by Underpotential Deposition Co and Surface-limited Redox Replacement Ru /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 表面侷限氧化還原反應釕置換低電位沉積鈷製備釕鈷合金薄膜特性 =/ 張耀文.
    其他題名: Ru(Co) Thin Film Prepared by Underpotential Deposition Co and Surface-limited Redox Replacement Ru /
    其他題名: Ru(Co) Thin Film Prepared by Underpotential Deposition Co and Surface-limited Redox Replacement Ru.
    作者: 張耀文
    出版者: 雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民112.07.,
    面頁冊數: [15], 122面 :圖, 表 ; : 30公分.;
    附註: 指導教授: 方昭訓.
    標題: 釕鈷合金薄膜. -
    電子資源: 電子資源
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