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鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 = Study of magnetoresi...

方昭訓

鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 = Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films
Author:	賴思宇,
Secondary Intellectual Responsibility:	方昭訓,
Secondary Intellectual Responsibility:	國立虎尾科技大學
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民96[2007]
Edition:	初版
Description:	139面圖,表 : 30公分;
Subject:	濺鍍
Subject:	magnetoresistance
Online resource:	http://140.130.12.251/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0702107-104527
Summary:	本實驗利用直流與射頻磁控濺鍍法在二氧化矽基板上製備磁阻薄膜，實驗分為三個部分來探討薄膜特性：第一部份探討共濺鍍沈積Co-Ti-O單層顆粒合金薄膜；第二部分探討共濺鍍沈積Co-Hf-O單層顆粒合金薄膜；第三部分探討 [TiOx (10 nm)/Co (t nm)]10多層顆粒合金薄膜。單層顆粒合金薄膜方面，主要是藉由改變Co的體積分率與熱處理溫度，藉以形成奈米尺寸的Co磁性金屬顆粒析出於TiOx或HfOx絕緣化合物基地上所組成的薄膜；而多層顆粒合金薄膜方面是藉由改變Co磁性金屬層的厚度，經不同溫度熱處理後，使Co顆粒在TiOx絕緣層中均勻析出，薄膜形成Co及TiOx之混合結晶相。實驗利用X光繞射儀(XRD)、穿透式電子顯微鏡(TEM)、振動試樣磁力計(VSM)、超導量子干涉磁化儀(SQUID)與四點探針(FPP)，觀察薄膜的微結構、相變化，並分析其電性、磁性質與磁阻特性之關係。在Co-Ti-O單層顆粒合金薄膜，當Co原子百分比為84.72

鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 = Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films
賴, 思宇

鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 = Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films / 賴思宇撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民96[2007]. - 139面 ; 圖,表 ; 30公分.
濺鍍magnetoresistance

方, 昭訓

鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 = Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films
LDR:02000nam0 2200253 450 001 540321
010 0 $b 平裝
100 $a 20090415h akaa0chia50020302ba
101 0 $a chi
102 $a cw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 鈷基合金薄膜之磁阻特性研究 $d Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films $f 賴思宇撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民96[2007] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 139面 $c 圖,表 $d 30公分
314 $a 指導教授：方昭訓
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
330 $a 本實驗利用直流與射頻磁控濺鍍法在二氧化矽基板上製備磁阻薄膜，實驗分為三個部分來探討薄膜特性：第一部份探討共濺鍍沈積Co-Ti-O單層顆粒合金薄膜；第二部分探討共濺鍍沈積Co-Hf-O單層顆粒合金薄膜；第三部分探討 [TiOx (10 nm)/Co (t nm)]10多層顆粒合金薄膜。單層顆粒合金薄膜方面，主要是藉由改變Co的體積分率與熱處理溫度，藉以形成奈米尺寸的Co磁性金屬顆粒析出於TiOx或HfOx絕緣化合物基地上所組成的薄膜；而多層顆粒合金薄膜方面是藉由改變Co磁性金屬層的厚度，經不同溫度熱處理後，使Co顆粒在TiOx絕緣層中均勻析出，薄膜形成Co及TiOx之混合結晶相。實驗利用X光繞射儀(XRD)、穿透式電子顯微鏡(TEM)、振動試樣磁力計(VSM)、超導量子干涉磁化儀(SQUID)與四點探針(FPP)，觀察薄膜的微結構、相變化，並分析其電性、磁性質與磁阻特性之關係。在Co-Ti-O單層顆粒合金薄膜，當Co原子百分比為84.72
510 1 $a Study of magnetoresistance characteristic of cobalt-based thin films
610 0 $a 濺鍍 $a 磁阻
610 1 $a magnetoresistance $a sputter
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700 $a 賴 $b 思宇 $3 523781
702 $a 方 $b 昭訓 $3 487549
712 $a 國立虎尾科技大學 $b 工業工程與管理究所 $3 523742
770 $a Ssu-Yu Lai $3 586586
772 $a Jau-Shiung Fang $3 538184
801 0 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20071207 $g CCR
801 2 $a cw $b 虎尾科技大學 $c 20090415 $g CCR
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