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共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 = Barrier p...

黃智祥

共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 = Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films
Author:	黃智祥,
Secondary Intellectual Responsibility:	方昭訓,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民97[2008]
Edition:	初版
Description:	122面圖 : 30公分;
Subject:	共濺鍍法
Subject:	合金薄膜
Subject:	擴散阻障層
Subject:	氮化鉿
Subject:	Cu(Hf) alloy films
Subject:	HfN
Subject:	co-sputter
Subject:	diffusion barrier
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2407200813220700

共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 = Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films
黃, 智祥

共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 = Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films / 黃智祥撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民97[2008]. - 122面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
共濺鍍法合金薄膜擴散阻障層氮化鉿Cu(Hf) alloy filmsHfNco-sputterdiffusion barrier

方, 昭訓

共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 = Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films
LDR:01113nam0 2200313 450 001 549225
010 0 $b 平裝
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101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 共濺鍍製備Cu1-xHfx薄膜擴散阻礙特性之研究 $d Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films $f 黃智祥撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民97[2008] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 122面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 方昭訓
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學光電與材料科技研究所
510 1 $a Barrier properties of co-sputtering cu1-xhfx thin films
610 0 $a 共濺鍍法
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770 $a Chih-Hsiang Huang $3 533910
772 $a Jau-Shiung Fang $3 538184
801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081111
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20081223
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