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5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of ...

Wen-Jing Li

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Paralel Title:	5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
Author:	李文菁,
Secondary Intellectual Responsibility:	方昭訓,
Place of Publication:	雲林縣
Published:	國立虎尾科技大學;
Year of Publication:	民99[2010]
Edition:	初版
Description:	136面圖 : 30公分;
Subject:	釕
Subject:	鉭
Subject:	磁控濺鍍
Subject:	擴散阻障層
Subject:	Ru-B
Subject:	Ta-B
Subject:	Ru-Ta-B
Subject:	magnetron sputtering
Subject:	diffusion barrier
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2008201011534900

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
李, 文菁

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics / 李文菁撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 136面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
釕鉭磁控濺鍍擴散阻障層Ru-BTa-BRu-Ta-Bmagnetron sputteringdiffusion barrier

方, 昭訓

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
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328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
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