國立虎尾科技大學 |

登入

回首頁

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of ...

Wen-Jing Li

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
作者:	李文菁,
其他作者:	方昭訓,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民99[2010]
版本:	初版
面頁冊數:	136面圖 : 30公分;
標題:	釕
標題:	鉭
標題:	磁控濺鍍
標題:	擴散阻障層
標題:	Ru-B
標題:	Ta-B
標題:	Ru-Ta-B
標題:	magnetron sputtering
標題:	diffusion barrier
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2008201011534900

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
李, 文菁

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics / 李文菁撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 136面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
釕鉭磁控濺鍍擴散阻障層Ru-BTa-BRu-Ta-Bmagnetron sputteringdiffusion barrier

方, 昭訓

5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 = 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
LDR:01200nam0 2200337 450 001 649047
005 20110103144625.0
010 0 $b 平裝
100 $a 20101001d m y0chib
101 0 $a chi $d chi $d eng
102 $a tw
200 1 $a 5 nm之Ru-(Ta)-B擴散阻障層與銅製程特性 $d 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics $f 李文菁撰
205 $a 初版
210 $a 雲林縣 $d 民99[2010] $c 國立虎尾科技大學
215 0 $a 136面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 方昭訓
320 $a 含參考書目
328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
510 1 $a 5 nm of Ru-(Ta)-B diffusion barrier layer and copper processing characteristics
610 # 0 $a 釕
610 # 0 $a 鉭
610 # 0 $a 磁控濺鍍
610 # 0 $a 擴散阻障層
610 # 1 $a Ru-B
610 # 1 $a Ta-B
610 # 1 $a Ru-Ta-B
610 # 1 $a magnetron sputtering
610 # 1 $a diffusion barrier
681 $a 008.152M$b4004
700 1 $a 李 $b 文菁 $3 718915
702 1 $a 方 $b 昭訓 $3 487549
770 1 $a Wen-Jing Li $3 718008
772 0 $a Jau-Shiun Fang $3 718009
801 0 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20100914
801 1 $a tw $b 國立虎尾科技大學圖書館 $c 20101203
856 4 # $u http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2008201011534900