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Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究 = Charac...
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Jau-Shiung Fang
Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Paralel Title:
Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
Author:
蘇武加,
Secondary Intellectual Responsibility:
方昭訓,
Place of Publication:
雲林縣
Published:
國立虎尾科技大學;
Year of Publication:
民99[2010]
Edition:
初版
Description:
125面圖 : 30公分;
Subject:
Ta-Si-C 薄膜
Subject:
電漿表面改質
Subject:
Ta-Si-C(O)x
Subject:
熱穩定性
Subject:
Ta-Si-C
Subject:
plasma surface treatment
Subject:
thermal stability
Subject:
Ta-Si-C(O)x
Online resource:
http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2008201016381700
Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
蘇, 武加
Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究
= Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization / 蘇武加撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 125面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
Ta-Si-C 薄膜電漿表面改質Ta-Si-C(O)x熱穩定性Ta-Si-Cplasma surface treatmentthermal stabilityTa-Si-C(O)x
方, 昭訓
Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
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Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於 銅製程之特性研究
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Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
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蘇武加撰
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民99[2010]
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國立虎尾科技大學
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指導教授 : 方昭訓
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含參考書目
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碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
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Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
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圖書館B1F 博碩士論文專區
圖書館B1F 可外借論文區
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T001984
圖書館B1F 博碩士論文專區
不流通(NON_CIR)
碩士論文(TM)
TM 008.152M 4414 99
一般使用(Normal)
On shelf
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T001985
圖書館B1F 可外借論文區
不流通(NON_CIR)
一般圖書
008.152M 4414 99
一般使用(Normal)
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2 records • Pages 1 •
1
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