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Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於銅製程之特性研究 = Charac...

Jau-Shiung Fang

Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
作者:	蘇武加,
其他作者:	方昭訓,
出版地:	雲林縣
出版者:	國立虎尾科技大學;
出版年:	民99[2010]
版本:	初版
面頁冊數:	125面圖 : 30公分;
標題:	Ta-Si-C 薄膜
標題:	電漿表面改質
標題:	Ta-Si-C(O)x
標題:	熱穩定性
標題:	Ta-Si-C
標題:	plasma surface treatment
標題:	thermal stability
標題:	Ta-Si-C(O)x
電子資源:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2008201016381700

Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
蘇, 武加

Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization / 蘇武加撰 - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學, 民99[2010]. - 125面 ; 圖 ; 30公分.
含參考書目.
Ta-Si-C 薄膜電漿表面改質Ta-Si-C(O)x熱穩定性Ta-Si-Cplasma surface treatmentthermal stabilityTa-Si-C(O)x

方, 昭訓

Ta-Si-C 非晶質擴散阻障應用於銅製程之特性研究 = Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
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215 0 $a 125面 $c 圖 $d 30公分
314 $a 指導教授 : 方昭訓
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328 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所
510 1 $a Characteristics of amorphous Ta-Si-C film as a diffusion barrier for copper metallization
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