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調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 = = Fabr...

陳鈞煜

調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 = = Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 =/ 陳鈞煜.
其他題名:	Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition /
其他題名:	Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition.
作者:	陳鈞煜
出版者:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民111.07.,
面頁冊數:	[13], 156面 :圖, 表 ; : 30公分.;
附註:	指導教授: 方昭訓.
標題:	鈷釕合金薄膜. -
電子資源:	電子資源

調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 = = Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition /
陳鈞煜

調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 =Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition /Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition.陳鈞煜. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民111.07. - [13], 156面 :圖, 表 ;30公分.

指導教授: 方昭訓.

碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.

含參考書目.

(平裝).Subjects--Topical Terms:

1245706
鈷釕合金薄膜.

調控低電位沉積層狀製備下世代Co(Ru)合金連導線薄膜 = = Fabrication of Co(Ru) Interconnect Thin Film by Manipulating Monolayer Underpotential Deposition /
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500 $a 指導教授: 方昭訓.
500 $a 學年度: 110.
502 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
504 $a 含參考書目.
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650 # 4 $a 鈷釕合金薄膜. $3 1245706
650 # 4 $a 電化學原子層沉積. $3 1011300
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