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電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Prep...

柳耀翔

電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 =/ 柳耀翔撰.
Reminder of title:	Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /
remainder title:	Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection.
Author:	柳耀翔
Published:	雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民103.07.,
Description:	[14] ,125面 :圖 ; : 30公分.;
Notes:	指導教授：方昭訓.
Subject:	電化學原子層沉積. -
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2908201421340600

電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /
柳耀翔

電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 =Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection.柳耀翔撰. - 初版. - 雲林縣 :國立虎尾科技大學 ,民103.07. - [14] ,125面 :圖 ;30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /
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500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與綠色能源工程研究所.
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650 # 4 $a 低電位沉積. $3 1011312
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