電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Prep...
柳耀翔

 

  • 電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 = = Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 電化學原子層沉積製備銅銀合金薄膜於連導線應用之特性探討 =/ 柳耀翔撰.
    其他題名: Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection /
    其他題名: Preparation and Characterisitics of Electrochemical Atomic Layer Deposited Copper-Silver Alloy Film on Interconnection.
    作者: 柳耀翔
    出版者: 雲林縣 :國立虎尾科技大學 , : 民103.07.,
    面頁冊數: [14] ,125面 :圖 ; : 30公分.;
    附註: 指導教授:方昭訓.
    標題: 電化學原子層沉積. -
    電子資源: http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2908201421340600
館藏
  • 2 筆 • 頁數 1 •
 
T005526 圖書館B1F 博碩士論文專區 不流通(NON_CIR) 碩士論文(TM) TM 008.152M 4798 103 一般使用(Normal) 在架 0
T005527 圖書館B1F 可外借論文區 不流通(NON_CIR) 一般圖書 008.152M 4798 103 一般使用(Normal) 在架 0
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