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電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = = Pre...

黃家宏

電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = = Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = / 黃家宏撰.
Reminder of title:	Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
remainder title:	Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition.
Author:	黃家宏
Published:	雲林縣 : 國立虎尾科技大學 , : 民105.06.,
Description:	[9], 136面 : 圖, 表 ; : 30公分.;
Notes:	指導教授：方昭訓.
Subject:	電化學原子層沉積. -
Online resource:	http://cetd.lib.nfu.edu.tw/etdservice/view_metadata?etdun=U0028-2807201619422800

電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = = Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
黃家宏

電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition / Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition.黃家宏撰. - 初版. - 雲林縣 : 國立虎尾科技大學 , 民105.06. - [9], 136面 : 圖, 表 ; 30公分.

指導教授：方昭訓.

含參考書目.Subjects--Topical Terms:

1011300
電化學原子層沉積.

電化學原子層沉積製備Ag和Ag(Cu)薄膜之特性研究 = = Preparation of Ag andAg(Cu) Thin Film by Electrochemical Atomic Layer Deposition /
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500 $a 碩士論文--國立虎尾科技大學材料科學與工程系材料科學與綠色能源工程碩士班.
504 $a 含參考書目.
650 # 4 $a 電化學原子層沉積. $3 1011300
650 # 4 $a 欠電位沉積. $3 1011298
650 # 4 $a 表面侷限氧化還原反應. $3 1085079
650 # 4 $a 銀 & 銀銅薄膜. $3 1085078
650 # 4 $a Electrochemical atomic layer deposition. $3 1011341
650 # 4 $a underpotential deposition. $3 1085077
650 # 4 $a Surface limited redox replacement. $3 1011339
650 # 4 $a Ag(Cu) thin films. $3 1085076
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