鄭錦隆

HfLaTiON interconnect 高介電常數材料 燒結條件 氣液固相法 contact resistance Stressed silicon nitrides HfOxNy nonvolatile memory (NVM) devices 氮氧化鉿鑭 Nonvolatile Memory Devices 非揮發性記憶體元件 silicon nanorods TMAH HfLaTiTaON high carrier mobility/bandgap material Sputter Carbon nanotube network (CNTN) 氫氧化鉀 旋轉塗佈二氧化矽 tensile stress carbon nanotube network (CNTN) 應力氮化矽 internal stress Silicon Nanorod High-k 矽奈米柱 Hybrid 後沉積熱處理 奈米晶體 metal-oxide-semiconductor post-deposition annealing Solar Cells 內連線 Matlab(電腦程式) 網印技術 氫氧化四甲基銨 sputter 移動率 CoxMoyO High-k materials 異丙醇 charge trapping layers high-K material nanomaterials High-k Dielectrics 奈米碳管網 nanoparticles 電荷補捉層 carbon nanotube reliability 高介電係數材料 KOH wet etching technique Hybrid silicon nanomaterials Vapour–Liquid–Solid AgNO3 網印銀膠 薄膜電晶體 Hydrogen treatment KOH solar cells 硝酸銀 埋入式接觸太陽能電池 反射& 高能隙高移動率材料 Vapor-liquid-solid 可靠度 mobility thin-film transistor spin on glass buried contact solar cell AgNO3 etching 氮氧化鈦鉭鉿鑭 AgNO3 Wet Etching Technique 氮氧化鉿鑭鈦 拉伸應力 氫氧化鉀濕式蝕刻 吸收層 抗反射層 摻鋁氧化鋅 高介電係數 Absorber layer screen printed 後沈積熱處理 微電子元件 氮化鉿 混成矽奈米材料 金氧半元件 anti-reflection coatings screen printed silver 濺鍍機 氮氧化鈦鋁鉿鑭 氫化處理 Post-Deposition Annealing HfTiTaON 氮化鉿鈦鉭 HfLaTiAlON IPA annealing Charge Trapping Layer HfLaOxNy 太陽能電池 內應力 硝酸銀蝕刻 奈米材料 nano-materials 奈米碳管 接觸電阻 aluminum-doped zinc oxide